탄소 분자체 및 제올라이트 분자체는 질소 및 산소 생산 분야에서 일반적으로 사용됩니다.
산소와 질소에 대한 분자체의 분리 효과는 주로 분자체 표면에서 이 두 가스의 확산 속도의 차이를 기반으로 합니다. 탄소 분자체는 활성탄 및 분자체의 일부 특성을 가진 탄소 기반 흡착제입니다. 탄소 분자체는 0.3nm에서 1nm 사이의 기공 크기 분포를 갖는 매우 작은 미세 기공 조성을 가지고 있습니다. 직경이 작은 기체(산소)는 더 빨리 확산되고 분자체의 고체상으로 더 많이 들어가므로 기체 상에 질소가 풍부해질 수 있습니다. 일정 시간이 지나면 분자체에 의한 산소 흡착이 평형에 도달합니다. 다른 압력에서 가스를 흡착하는 탄소 분자체의 다른 특성에 따라 압력을 줄이면 탄소 분자체가 산소 흡착을 해제합니다. 이 과정을 재생이라고 합니다. 압력 스윙 흡착 방법은 일반적으로 두 개의 타워를 병렬로 사용하여 연속적인 질소 흐름을 얻기 위해 압력 흡착과 감압 재생을 교대로 수행합니다.
